什么是光刻胶？
光刻胶又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂（见光谱增感染料）和溶剂三种主要成分组成 的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像。
为何被“卡脖子”？
中国的光刻胶产业发展相对滞后，尤其是在芯片制造领域，中国的光刻胶依赖进口比较严重。由于光刻胶技术的高度复杂性和专业性，中国在此领域的研究和开发相对滞后。同时，国外的光刻胶制造商在产品质量和技术创新方面处于领先地位，这也导致了国内光刻胶制造商的竞争力较弱。这就给中国的半导体产业带来了一定的制约和挑战。
为了加快中国光刻胶产业的发展，需要加强科技创新和人才培养，加大对光刻胶研发的投入，提高光刻胶制造商的技术水平和产品质量，降低生产成本，从而增强国内光刻胶产业的竞争力和市场占有率。此外，也需要加强国际合作，借鉴国外先进技术和管理经验，促进中国光刻胶产业的快速发展。
光刻胶的优点
1、高精度：光刻胶可以制造非常高精度的微型器件，可以达到亚微米的级别。
2、高可控性：光刻胶的分子结构非常可控，可以根据不同的需求进行设计。
3、高稳定性：光刻胶具有非常高的稳定性，可以在不同的环境条件下使用。
光刻胶是微电子制造中非常重要的材料之一，它可以制造出非常高精度的微型器件。在芯片、光学器件和MEMS等微型器件的制造中，光刻胶都有着非常重要的应用。
发展前景
近年来，光刻胶在微电子行业中不断开发出新的用途，如采取光敏性介质资料制作多芯片组件（MCM）。MCM技术可大幅度缩小电子系统体积，减轻其质量，并提高其可靠性。
近年来国外在高级军事电子和宇航电子装备中，已广泛地应用MCM技术。 可以预见，发展微电子信息财产及光电财产中不可缺少的基础工艺资料——光刻胶产品在21世纪的应用将更广泛、更深入。
5家“光刻胶”概念下的优质企业
第一家：芯源微
亮点题材：光刻胶、芯片概念、中芯国际概念
公司亮点：致力于为客户提供半导体装备与工艺整体解决方案
公司主要经营集成电路的生产设备和测试设备及其他电子设备的开发研制、生产与销售，承接相关设备安装工程、技术服务；自营和代理各类商品和技术的进出口业务。
下游客户覆盖国内主要LED芯片制造企业和集成电路制造后道先进封装企业，与包括台积电、长电科技、华天科技、通富微电、晶方科技、华灿光电等在内的多家优质客户保持着长期稳定的合作关系。
第二家：晶方科技
亮点题材：先进封装（Chiplet）、光刻胶、芯片概念，第三代半导体
公司亮点：全球第二大能为影像传感芯片提供WLCSP量产服务的专业封测服务商
公司主要专注于传感器领域的封装测试业务，拥有多样化的先进封装技术，同时具备8英寸、12英寸晶圆级芯片尺寸封装技术规模量产封装线，涵盖晶圆级到芯片级的一站式综合封装服务能力，为全球晶圆级芯片尺寸封装服务的主要提供者与技术引领者。
