众所周知，ASML是全球最大的光刻机设备供应商，不仅掌握着全球EUV光刻机全部的市场份额，就连DUV光刻机也是碾压日本的尼康和佳能，十几年来一直霸居光刻机领域的“头把交椅”。但其一直都没有“主心骨”，尤其是在美国面前的表现，卑微的不能再卑微，美国一句话，ASML就乖乖的与中企切断合作，禁止向中芯国际等中企供货EUV光刻机以及最先进的DUV光刻机。
要知道，光刻机设备是芯片制造过程中至关重要的设备，没有它，根本就造不出芯片，其重要性不言而喻。美国联合日本、荷兰切断我国获取光刻设备的路径，让我国的半导体发展承受着巨大的压力。
为了彻底打破美国等西方国家为我们半导体领域发展设置的禁令，近几年，我国开始加大了对集成电路、工业母机等核心领域的投入。要知道，早在两年前国家已经定下了2025年国产芯片自给率达到70%的目标。
为此，我们斥巨资打造了“东方芯港”等基础半导体产业链设施，为了鼓励国内芯片企业坚持走自研道路，国家出台了免除半导体相关企业十年税收的扶持政策，旨在鼓励国内相关企业齐心协力合作，共同推动我国半导体领域的发展。
得益于国家的政策倾斜，国内半导体企业拔地而起，中科院专门成立了“攻克核心技术”的攻关小组，上海微电子等光刻企业致力于对传统光刻机的技术突破。值得注意的是，在这样全民共同努力之下，我国光刻机已经突破28nm工艺，这也是当下市场需求的主流工艺。
