在现代芯片制造中，光刻机是关键的设备之一。光刻机能够通过光照和化学反应将电路图案精确地投影到硅片上，这是芯片制造的重要步骤之一。然而，芯片制造的需求不断增加，对光刻机的要求也越来越高，这使得光刻机制造商不断挑战着物理极限。
目前，全球光刻机市场主要由荷兰ASML公司垄断。ASML的EUV（极紫外）光刻机是目前最先进的光刻技术之一，能够实现更小的芯片制造，提高芯片集成度。然而，EUV光刻机的制造难度非常高，需要使用极紫外光（波长为13.5纳米）进行曝光，而这种波长的光无法被普通光学元件聚焦和反射，必须使用反射镜技术。
为了实现EUV光刻机的制造，ASML投入了大量的研发资金和人力资源。该公司在荷兰、美国和亚洲拥有多个研究中心，并与多家大学和研究机构合作。ASML还与Intel、三星、台积电等大型芯片制造商建立了合作关系，共同推进EUV技术的应用和研发。
除了ASML，中国也在加紧研发光刻机技术。据报道，中国正在研制自己的EUV光刻机，已经实现量产。中国的光刻机制造商微电子公司表示，他们已经成功制造出第一台EUV光刻机的关键部件——反射镜。微电子公司计划在未来几年内进一步提升技术水平，将中国的光刻机技术推向世界领先水平。