EUV光刻机即将“变味”，ASML始料未及

对于 EUV光刻机，相信各位都不会陌生，在7 nm制程后， EUV光刻机才会出现在市场上，至于7 nm及以下制程，几乎都是硬通货，其实英特尔在10 nm制程时，就已经开始使用 EUV光刻机了，当然，这其中也有英特尔独特的制程，但更多的却是其高集成度。


这也是为什么，英特尔的十纳米制程，跟台积电的七纳米制程，完全一样的原因，这也是为什么，英特尔会将十纳米制程，改为七纳米制程，七纳米制程，五纳米制程，三纳米制程，但到了二十 A制程，就变成了二纳米制程，而一八 A制程，英特尔还没有公开。

不过不管是台积电也好，英特尔也罢，都无法脱离 EUV光刻机的范畴，而这款 EUV光刻机在市场上的应用，也在不断更新，比如 ASML公司，就将物镜的数值孔径从0.33提升到了0.55，专门用来制作2 nm晶片，而这款光刻机，也被英特尔公司下了订单。