美光将向日本引入EUV光刻机

美光科技公司表示，计划在日本政府的支持下，在未来几年内向极紫外 (EUV) 技术投资至多 5,000 亿日元（37 亿美元）。
最新的极紫外光刻（EUV）芯片制造机将用于制造1-gamma芯片，可用于大规模生产图像处理网络等复杂应用所需的材料。


并表示，美光将成为第一家将 EUV 技术引入日本进行生产的半导体公司，并补充说，预计从 2025 年起，将 EUV 投入台湾和日本 1-gamma 节点的生产。
去年，这家美国内存芯片制造商在广岛的工厂开始大规模生产其新型高容量低功耗 1-beta 动态随机存取内存 (DRAM) 芯片后，宣布了这一消息。DRAM芯片是断电后失去记忆的内存芯片。


日本一直在努力重振其芯片行业，其全球市场份额已从 1980 年代末的 50% 左右降至 10% 左右，而美国则越来越多地敦促其盟友共同努力，对抗中国的芯片和先进技术发展。