相信很多人都有疑问，波长193纳米的光刻机为什么能刻出50纳米左右甚至更小的线宽？今天作者来给大家解读一下。
首先看一下193nm波长的光刻机长什么样，如下图所示，右边是光源系统，中间部分是透镜系统，左边部分是机械手臂来移动硅片以及曝光前对准（alignment）等等。
193nm紫外光产生后经过一堆透镜镜面反射到左边硅片上方的透镜系统之上，紫外光会先经过掩模板（mask）再经过一系列大透镜最终聚焦到硅片上对光刻胶（resist）进行曝光，从而将掩模板上的图案转移到光刻胶上，后续经过显影（develop）刻蚀（etch）等等步骤真正转移到硅片上，最终在硅片上制造出几十纳米大小的晶体管器件。
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