财联社 4 月 1 日讯（编辑 旭日）半导体芯片板块近期表现强势，光刻机分支的概念龙头张江高科 3 月期间一度八天四板，当月累计最大涨幅达 60%。上周五公告获大基金二期投资的晶瑞电材本周一录得 20cm 涨停，公司此前在互动易上表示目前拥有成系列的光刻机五台，用于光刻胶的研发。
消息面上，商务部部长王文涛近日会见荷兰阿斯麦公司全球总裁温宁克，双方还就阿斯麦在华发展等议题进行了交流。
据悉，光刻机作为半导体设备三大件之一，是人类文明智慧的结晶，被誉为 " 半导体工业皇冠上的明珠 "。
公开资料显示，光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备，技术含量、价值含量极高。它采用类似照片冲印的技术，把掩模版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上，经过十余代的发展迭代，目前最先进光刻机单次曝光可以做到低于 5nm 的分辨率。
根据全球半导体设备市场规模估算，2021 年全球光刻机市场规模为 181 亿美元，预计 2022 年将达到 201 亿美元。全球光刻机前三大厂商的市场份额占比达 90% 以上，根据前三大厂商的销售数据显示，2015-2021 年 , 全球光刻机销售量总体增长，2021 年达 478 台。
光刻机市场集中度高，ASML、Nikon、Canon 市场占有率超过 90%，其中 ASML 由于其技术领先，垄断了 EUV 光刻机，独占 75% 的市场份额，Nikon 与 Canon 分别占据 13% 和 6% 的市场份额。ASML 的光刻机技术在全球处于绝对领先地位，EUV 领域 ASML 市占率为 100%，ArFi、ArF 领域市占率分别高达 96%、88%。
国内光刻机产业起步较晚，与海外具体差距明显。1977 年，清华大学精密仪器系、中科院光电所、中国电子科技集团公司第四十五研究所（简称中电科 45 所）等先后投入研制光刻机。我国也时隔近十年，研制出了具有一定代表意义的光刻机——接触式光刻机 GK-3 型半自动光刻机。
光刻机产业链主要包括上游设备及配套材料、中游光刻机系统集成和生产及下游光刻机应用三大环节，技术极为复杂，涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，部分机型所需的零部件更是多达数十万件，因此光刻机的生产通常涉及上千家供应商。