快科技 7 月 5 日消息，台积电今年要大规模量产 3nm 工艺了，三星也是，两家还要在 2025 年左右量产 2nm 工艺，对 EUV 光刻工艺的需求更高，而 ASML 今年底也会出货新款 EUV 光刻机 NXE:3800E，2nm 工艺就靠它了。
ASML 是唯一能量产 EUV 光刻机的公司，而且迭代了多次，主要是提升能效及产能，目前最新的型号是 NXE:3600D，NXE:3800E 计划是年底出货，进一步降低 EUV 光刻的成本。
NXE:3800E 光刻机的曝光能力将达到 30mJ/cm2，WPH 每小时产能大约是 195 片晶圆，后续还会提升到 220 片晶圆 / 小时，产能比当前型号高出 30% 以上。
至于售价，NXE:3800E 的价格还没有权威说法，但是此前 EUV 光刻机就卖到 1.5 亿美元以上，这两年还有通胀等因素，价格 10 亿起步是少不了的。
未来的高 NA 孔径 EUV 光刻机会更贵，价格轻松突破 25 到 30 亿元之间。
NXE:3800E 光刻机今年底出货的话，考虑到安装、调试及生产的周期，未来台积电、三星会主要在 2nm 节点使用，而高 NA 孔径的下一代光刻机要解决的是 1nm 及之后的工艺。
