该机构展望未来,预计市场将保持强劲发展,2022-2027年这5年的复合年增长率为4.1%。TECHCET首席策略师Karey Holland博士说:“增长最快的光刻胶产品是EUV和KrF,因为这两种产品都用于引入先进逻辑和存储器等新技术。”
用于“传统”节点(如I、G和KrF/248nm)的光刻胶材料也将支持市场持续增长。随着三星、台积电、英特尔等公司将一些工艺从ArF和ArFi(193nm和193nm浸没式193i)转向EUV和193i的组合,EUV的产量迅猛增长。
光刻胶也在正推动新的应用趋势的不断发展,由于晶圆厂扩张和其他国际供应商的出口限制,支持台积电和韩国三星的规模较小的光刻胶公司正在当地市场站稳脚跟。尽管日本政府(2023年3月之前)限制向韩国和中国出口某些光刻胶产品,但总部位于日本的光刻胶公司目前在光刻胶市场上占有75-90%的份额。虽然其中一些限制已经取消,但这些地缘政治贸易中断推动了中国大陆、中国台湾和韩国当地材料供应商的在岸生产。
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