DoNews9月18日消息,近期,一则消息在各大视频平台广为传播,称清华大学 EUV 项目把 ASML 的光刻机巨大化,实现了光刻机国产化,并表示这个项目已经在雄安新区落地。
对此,中国电子工程设计院有限公司(下称“中国电子院”)18日下午发声,称该项目并非网传的国产光刻机工厂,而是北京高能同步辐射光源项目(HEPS)。
中国电子院表示,简单的说,HEPS 可以看成是一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型 X 光机。它产生的小光束可以穿透物质、深入内部进行立体扫描,从分子、原子的尺度多维度地观察微观世界,HEPS 是进行科学实验的大科学装置,并不是网传的光刻机工厂。
中国电子工程设计院有限公司创建于 1953 年,曾先后隶属于电子工业部、信息产业部,2003 年由国务院国资委管理,2009 年并入国家开发投资集团有限公司。
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