国产光刻机工厂落地雄安？中国电子院澄清

 

近期，一则消息在各大视频平台广为传播，称清华大学EUV项目把ASML的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并表示这个项目已经在雄安新区落地。对此，中国电子工程设计院有限公司（以下简称“中国电子院”）9月18日发声，称该项目并非网传的国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）。



网传视频中表示图片中的项目就是光刻厂

中国电子院解释称，HEPS的作用是通过加速器将电子束加速到6GeV，然后注入周长1360米的储存环，用接近光速的速度保持运转，电子束在储存环的不同位置，通过弯转磁铁或者各种插入件时就会沿着偏转轨道切线的方向，释放出稳定、高能量、高亮度的光，也就是同步辐射光。

HEPS可以看成是一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型X光机，它产生的小光束可以穿透物质、深入内部进行立体扫描，从分子、原子的尺度多维度地观察微观世界，HEPS是进行科学实验的大科学装置，并不是网传的光刻机工厂。

据悉，HEPS坐落于北京怀柔雁栖湖畔，是国家“十三五”重大科技基础设施。它是我国第一台高能量同步辐射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一，早在2019年就开始建设，将于2025年底投入使用。



北京高能同步辐射光源项目实拍图

该项目由全国勘察设计大师、国投集团首席科学家娄宇带队，中国电子院多个技术科研和设计团队协同合作，从项目可研立项到项目落地，中国电子院攻克了多项技术和工艺难关，解决了项目不均匀沉降、微振动控制、超长结构设计、光伏板设计、精密温度控制、工艺循环冷却水系统、超复杂工艺系统等七大技术难题，实现了重大技术突破，指标控制达到了国际先进水平。

目前高能同步辐射光源配套工程已全面完工，向产生世界最“亮”的光又更近了一步。

近年来，中国电子院深耕细做半导体行业，承担了国内超过50%的存储芯片项目。今年，中国电子院还成立松山湖先进半导体工程技术联合创新中心，借助该平台引才、引智开展联合技术攻关，助力我国半导体行业解决“卡脖子”难题。

官网介绍，中国电子工程设计院有限公司创建于1953年，曾先后隶属于电子工业部、信息产业部，2003年由国务院国资委管理，2009年并入国家开发投资集团有限公司。公司以设计为龙头，服务范围涵盖前期咨询、规划、环境和节能评价、工程设计、项目管理、工程监理、工程承包、工程检测评定等全过程，在工业工程、民用建筑、检验检测等诸多领域，为境内外客户提供优质全面的工程服务。