机构频繁调研半导体公司及光刻机概念股，其中，最火热的公司获调研次数达到161家次。此外，从公司半年报中可以看到，不少知名基金经理大举布局半导体股票。光刻机方面，广信材料9月以来共受机构调研161家次，其中基金公司调研60家次。此外，赛微电子、南大光电、华特气体、安集科技也接受了基金公司5家次以上的调研。在光刻机企业的调研名单中，出现了汇添富基金、嘉实基金、天弘基金等头部公募的身影。
关注逻辑：
国内光刻机技术攻关如火如荼，纳米压印技术突然火出圈
在2002年，“光刻机被正式列入“863重大科技攻关计划””，这是中国政府为了掌握集成电路的主动权而采取的重要措施。此后，国家又成立了“极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项”（02专项），将建立自主的高端光刻技术和产业发展能力作为重大、核心的战略目标。
经过将近20年的攻关，国内光刻机在集成技术方面终于完成从0到1的关键突破，在双工作台、光学系统、物镜系统、光源系统方面均有企业相继研发成功。这些突破标志着中国在光刻机技术领域的自主创新能力得到了显著提升。
根据公开消息，当前我国光刻机的制造主要有四条路线：
一是上海微电子，走ASML路线，全程规避美规。采用1X千瓦/60Khz的超高重复频率二氧化碳激光打靶。当前，我国有光刻机设备及材料企业都走的是这条路线，这也是目前的主流技术路线。
二是广智院与华中科技大学，采用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方式绕开超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器这个路线，目前样机的效果是传统二氧化碳激光器的LPP光源的数倍。
三是苏大维格的纳米压印技术。纳米压印是一种微纳加工技术，它采用传统机械模具微复型原理，能够代替传统且复杂的光学光刻技术。日经新闻网称，对比EUV光刻工艺，使用纳米压印光刻工艺制造芯片，能够降低将近四成制造成本和九成电量，铠侠、佳能等公司则规划在2025年将该技术实用化。
四是清华大学最为创新、最为激进的SSMB-EUV光刻工厂路线，即用同步辐射源和自由电子激光两种混合光源形成SSMB-EUV光刻机光源绕开ASML封锁，在DUV光刻机之后突破EUV光刻机。
9月14日午后，苏大维格突然拉出20cm涨停，其主要源自公司在互动平台中对投资者的一则回复“公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售，并已实现向日本、韩国、以色列等国家的出口”。而其纳米压印技术在光刻机制造领域的应用也引发市场的广泛关注。
公开资料显示，1995年，华裔科学家周郁（Stephen Chou）教授首次提出纳米压印概念，从此揭开了纳米压印制造技术的研究序幕。纳米压印技术是当今最具前景的纳米制造技术之一，很可能成为未来微纳电子与光电子产业的基础技术。目前，纳米压印技术在国际半导体技术蓝图（ITRS）中被列为下一代32nm、22nm和16nm节点光刻技术的代表之一。国内外半导体设备制造商、材料商以及工艺商纷纷开始涉足这一领域，短短25年，已经取得很大进展。