近期SSMB方案得到广泛关注，我们认为存在EUV光源换道超车的可能性。从技术层面看，SSMB与同步辐射光源技术具有一定相似性，SSMB具备产业化验证条件。从供应链角度看，我国在同步辐射光源领域基础较好，在核心零部件自主可控的前提下，HEPS项目已完成光源出束。目前，SSMB方案已完成理论证明，项目建设有望提上日程。若SSMB方案商业化进展顺利，我国将在光刻机领域取得重大突破并推动国内先进制程领域发展。围绕SSMB主题，我们建议关注两条投资主线：项目基础设施供应商、光刻机关键零部件供应商。
▍回顾历史，光源选择决定光刻机高度。
光源变革是光刻机技术迭代最有力的推动者，其他技术的变革是对光源迭代的回应。回顾光刻机发展历史，ASML正是选择了激进光源技术才实现了换道超车。SR光刻与EUV光刻均采用XIL技术，由于非相干光功率较低限制了SR光源工业化量产。SR光源和EUV光源均属于软X射线波段，在光刻环节均采用XIL技术，上海光源的XIL线站已运行超过十年，已取得一系科研和产业进展。但由于SR光源束团长度较长，产生的光相干性较差功率较小，限制了其在工业领域的大规模量产，SR光刻仅停留在实验室阶段。
▍SSMB能通过FEL同时实现光源的短波长和相干性，克服SR光源功率不足的问题，预计投资规模较大。
SSMB存储环中的自由电子激光具有束团品质高、波长连续可调、相干性强等优点，使得加速器光源产业化具备可行性。从投资规模看，根据《稳态微聚束加速器光源》（唐传祥、邓秀杰，2022），SSMB投资强度较大，预计造价为数亿到十亿元。同时，参照HEPS项目，我们预计未来SSMB项目主要零部件可达成自主可控，具备商业化落地前提。目前，HEPS加速器组成已部分完成招标，根据HEPS官网以及中国政府采购网信息，HEPS加速器的电子枪、微波功率源、配套仪器等供应商基本以国内厂商为主，供应商包括沈阳科学仪器、宝胜科技、北京高能锐新科技、合肥科烨、合肥聚能、爱科赛博、杭州永磁等；但真空系统配套设备组件采购仍较大程度依赖海外厂商，包括普发真空、美国MT、三井光中真空、韩国希尔泰等。
▍风险因素：
SSMB可能存在应用瓶颈；方案建设进度不及预期；光刻机产业链发展不及预期；商业化进度不及预期；半导体行业资本开支力度减弱。
▍投资策略：
作为“半导体工业掌上明珠”，ASML目前仍为全球唯一EUV光刻机供应商。受到国际政治博弈等不利因素影响，我国亟需在EUV光刻机等核心设备领域实现突破。清华大学提出的SSMB方案创新性地将同步辐射光源技术应用于EUV光刻领域。我国在同步辐射光源领域基础较好，HEPS项目已完成光源出束。从供应链角度看，HEPS基本可达到核心组成部分自主可控，我们认为SSMB方案在技术以及基础设施领域均具备较好的可实施性。虽然SSMB方案仍未进入建设期，项目仍有较大不确定性，但我们认为HEPS供应商与SSMB具有可比性，梳理HEPS项目供应商具有一定合理性。围绕SSMB方案，我们建议重点关注两条投资主线：
1）项目基础设施供应商：若方案在未来得到验证，我们认为有望率先带动大规模SSMB方案基础设施建设，电源、真空系统、电线电缆、核心器件等零组件有望率先受益；
2）光刻机关键零部件供应商：短期看，在传统技术路线下，我国光刻机核心零部件正处于快速发展阶段，国内光学厂商技术实力已取得长足进步；长期看，若SSMB方案顺利落地，我国有望在光源系统换道超车，有望加速国产EUV光刻机量产进度。