前言
我国在芯片领域一开始的表现并不出众，但是我们最终坚持了下来，展现了越挫越勇的精神。显而易见的是，研发芯片必须拥有相应的光刻机设备。
尽管美方试图限制我们的芯片发展，要求多家光刻机供应商停止与我们的合作，但面对强权的压力，林毅夫表示我们会在三年内掌握相关技术。
有人在网上讨论，如果不卖中国光刻机，三年内中国就能掌握这项技术。经过两年的时间，情况如何呢？林毅夫是北大国发院的名誉院长，在一次公开演讲中明确表示，我国将在三年内通过自身的努力掌握该技术。
当这一言论公开后，广大民众充满信心。由于大多数人并没有深入了解这一领域，所以对此充满期待。
当林毅夫校长说出这句话时，人们立刻做出了反应。很多网民表示，只要我们肯付出时间和努力，就一定能够取得成果。
此外，我们拥有充足的经费，在各种科技研发方面也拥有了稳固的基础和条件。
高科技武器如原子弹和核弹已经被成功地研发出来，光刻机的研究也呈上佳态势。林毅夫校长提出的观点是积极正面的，具有一定的准确性。
但我们也需要从实际情况出发，思考光致抗蚀剂技术在三年内是否能够成功实现。此前，美国公司ASML曾与中国合作，为中国提供光刻装置，并保持着良好合作关系。毕竟，中国市场非常庞大，对光刻机的需求量也很大，因此ASML很注重中国市场。
因美国的干涉，ASML被迫中止与中国的交易，并不得将光刻机设备运往中国。这对我国来说无疑是坏消息，同时ASML公司可能因此遭受一些损失。
而由于ASML在中国失去了最大的客户，光致抗蚀剂装置的交易量也无法继续以往的规模。在结束与ASML的合作后，我们在光刻机件的研发上投入了大量的人力和物力，而ASML也因此承担了很大的经济压力。
即便是ASML的总裁，也清楚地告诉中国，在未来三年内，只要中国的光刻技术有了重大突破，即便曾经是他们的遥不可及的底牌，ASML也将不再是他们的独门秘籍，而变成他们的强劲对手。
虽然在国外，人们对国内研发光刻机技术的前景充满期待，但事实上要突破这一技术壁垒、打破技术瓶颈并不容易。这是因为国内光刻深耕不足，在发展初期曾一味依赖引进技术，导致缺乏完整产业链的基础，需要花费大量时间建设。
ASML公司研发的光刻机无疑是世界级水平的，考虑到我们国家目前的研发实力，与ASML公司相比有很大的差距。
事实上，短期内我们无法迎头赶上。但是我们看到很多优秀企业正在研发光刻机。然而，这些公司开发出来的光致抗蚀剂装置所产生的晶片质量较低，无法满足市场的需求。因此，光致抗蚀剂的研发需要更长远的规划。
尽管当前美国对晶片实施制裁，但是看起来这种情况有所缓解。毕竟，失去我们这个合作伙伴后，很多晶片公司面临资金短缺的问题。
