对于 EUV光刻机,相信各位都不会陌生,在7 nm制程后, EUV光刻机才会出现在市场上,至于7 nm及以下制程,几乎都是硬通货,其实英特尔在10 nm制程时,就已经开始使用 EUV光刻机了,当然,这其中也有英特尔独特的制程,但更多的却是其高集成度。
这也是为什么,英特尔的十纳米制程,跟台积电的七纳米制程,完全一样的原因,这也是为什么,英特尔会将十纳米制程,改为七纳米制程,七纳米制程,五纳米制程,三纳米制程,但到了二十 A制程,就变成了二纳米制程,而一八 A制程,英特尔还没有公开。
不过不管是台积电也好,英特尔也罢,都无法脱离 EUV光刻机的范畴,而这款 EUV光刻机在市场上的应用,也在不断更新,比如 ASML公司,就将物镜的数值孔径从0.33提升到了0.55,专门用来制作2 nm晶片,而这款光刻机,也被英特尔公司下了订单。