光刻机是制造集成电路必不可少的工具之一，而EUV光刻机是未来半导体制造的趋势。近日，中科院传出了EUV光源样机亮相的消息，这一突破将有助于推动EUV光刻技术的商业化和应用。同时，荷兰ASML掌握了EUV光刻机的核心量产技术，但由于自身90%的零部件依赖进口，EUV光刻机仍是全球化的产物，考虑到美国的限制，ASML能否向中国大陆厂商出货EUV光刻机也不是它能决定的。本篇文章主要介绍ASML与EUV光刻机的关系，光刻机的重要性，EUV光刻机的技术难点，中科院在光刻机方面的突破，以及ASML供货与市场困境以及中国在光刻机领域自主研发的挑战。
ASML与EUV光刻机
ASML是EUV光刻机的重要制造商与供应商之一，而EUV光刻机是未来半导体制造的趋势。光刻机是制造集成电路必不可少的工具之一，通过将光源发出的光线通过光学系统投射到硅片上，形成所需的电路图案。在当前半导体行业中，光刻机的功能和性能非常重要，光刻机的发展既要跟上人们对电子产品不断升级的需求，也要积极追赶半导体市场的日新月异。
