日本“下黑手”，中芯国际猛跳水，光刻胶龙头却直线飙升，容大感光20CM！
光刻机是半导体设备皇冠明珠，推动摩尔定律持续成长。
光刻机是芯片制造中光刻环节的核心设备，技术含量、价值含量极高。
它采用类似照片冲印的技术，把掩模版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上，经过十余代的发展迭代，目前最先进光刻机单次曝光可以做到低于5nm的分辨率。
光刻机技术壁垒极高，荷兰阿斯麦一家独大。
2022年ASML光刻机营收约161亿美元，较2021年131亿成长23%；
Canon光刻机营收约为20亿美元；
Nikon光刻机业务营收约15亿美元，其中Canon与Nikon产品部分光刻机用于面板业，部分用于半导体，2022年三大企业光刻机营收合计接近200亿美元，合计市场份额超过90%。
ASML是光刻机绝对龙头，由于受到技术和巨额投资资金的限制，在高端光刻机领域，ASML一家独大，尼康和佳能已经放弃在高端光刻机领域的竞争。
在光刻机发展历程中，ASML后来居上，首先采用了浸没式系统以提升分辨率，并在后续研发了EUV光刻系统，在21世纪后打败日本Nikon和Canon并逐步垄断高端市场。
NIKON虽然理论上有除了EUV以外的所有类型光刻机产品，但近年来其ArF相关的高端产品出货量日趋萎缩，市场份额较低。
CANON目前产品完全集中于特定工艺领域的i-Line和KrF设备。出货量增长趋势不错，但没有任何高端工艺用设备。
我国光刻机产业起步较晚，自主可控需求日益突出。
光刻机产业链主要包括上游设备及配套材料、中游光刻机系统集成和生产及下游光刻机应用三大环节；
技术极为复杂，涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术，部分机型所需的零部件更是多达数十万件，因此光刻机的生产通常涉及上千家供应商。
