EUV光刻机作为半导体行业的重要技术，近来备受关注。然而，最近外媒报道称全球芯片厂商正在寻求替代EUV光刻机的解决方案，而EUV光刻机也被认为面临全球弃用的危险。本文将从什么是EUV光刻机、EUV光刻机被“抛弃”的原因到EUV光刻机被“抛弃”对半导体行业的影响展开详细的分析和讨论。
什么是EUV光刻机
EUV光刻机是一种相对于传统光刻技术更为先进的光刻设备。它可以通过使用极短波长的光源（157纳米）来实现更高的分辨率，并且可以将图案传输到制造芯片上。其主要优点在于制造高级别芯片时可以提供更高的集成度、精度和可靠性。
157纳米的光源可以实现高分辨率的光刻，因此EUV光刻机在制造高级别芯片时具有很重要的应用价值。相比于传统的光刻技术，EUV技术具有更高的分辨率和一系列优点。
EUV光刻机被“抛弃”的原因
目前全球的芯片公司正在寻求其他解决方案，包括使用尺寸更小、更个性化的刻刀设备，这部分原因是EUV光刻机在技术上存在瓶颈，而另一部分会涉及到成本和供应链等问题。
1、技术瓶颈
EUV生产技术仍存在一些局限性，如投影镜面积小、光源功率不足、掩模材料损伤等问题。这些问题已经在EUV方面的研究和制造过程中不断被克服。
2、成本和供应链问题
ASML无法提供大量快速交付的新EUV工具，许多公司面临缺货和延迟交付情况，因此寻求其他替代产品。ASML的市值过亿，在市场上存在一定的垄断地位，这也使得一些芯片制造商很难独立于ASML作为一个供货商。
3、新兴技术和替代解决方案
虽然EUV光刻机被抛弃对ASML公司造成一定的压力，但它也推动了激烈的技术竞争，并促使其他新兴技术和替代解决方案得到普及。例如可扩展的刻刀系统，其中包括具有微镜作用的通用模板和投影仪等光刻技术。在建造新型EUV工厂的同时，世界范围内才发现那些可替代EUV工艺的新技术的有效性和可行性，可能会产生更为广泛和深远的影响。
