第一财经消息，光刻机作为集成电路生产中不可或缺的重要设备之一，一直以来都决定了先进制程的发展速度，而阿斯麦(ASML)是欧洲最大的技术公司，主导着光刻市场。
近期，光刻巨头荷兰半导体设备公司阿斯麦首席执行官Peter Wennink表示，今年将按计划在其下一个产品线中推出首款测试工具。据了解，该款高数值孔径的极紫外光刻(EUV)机器只有卡车大小，每台成本超过 3 亿欧元，顶级芯片制造商需要这些机器，以便他们能够在未来十年生产更小、更好的芯片。
不过，在分析人士看来，EUV 光刻技术或非是通向先进制程的必由之路。
“未来几年可能会出现所谓下一代光刻技术，如NIL(纳米压印光刻)。”易方资本研究部主管王逸研对第一财经表示，传统的EUV(极紫外光刻)光刻机在制造晶体管时会遇到它的物理极限，NIL光刻机最大的好处是光源相对便宜，即不需要用能源转换效率低的EUV的激光源，而是只用一些DUV(深紫外光刻)或者是更成熟的光源就可以结合纳米涂层的方法实现一至两纳米制程的量产。
