在与日俱增的市场需求及全球缺芯的大环境下，芯片已然成为各国科技博弈中不谋而合的战略性指标，我国对于芯片的需求也越来越大，该领域正面临严重卡脖子的问题。突破芯片卡脖子难题的关键，则在于光刻环节。
光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，制造和维护均需要高度的光学和电子工业基础。而光刻技术则是制造集成电路的关键技术，是通过紫外光、准分子激光、电子束等广义光源和与其敏感的光刻胶之间的相互作用在基板上形成微纳结构图形的技术。
简单来讲，光刻机工作原理跟照相机类似，不过它的底片是涂满光刻胶的硅片，各种电路图案经激光缩微投影曝光到光刻胶上，光刻胶的曝光部分与硅片进行反应，将其永久刻在硅片上，这就是芯片生产最重要的步骤。因此，光刻机的技术决定了集成电路的高度。同时，芯片制造以及背后的光刻机技术也成为了美国对华科技封锁的缩影。
根据2020年国民经济和社会发展统计公报，2020年中国集成电路产量为2614.7亿块，较2019年同比增长29.6%，2016-2020年年均复合增速为18.7%，中国已成为全球规模最大、增速最快的集成电路市场。
然而，另一组数据显示，2020年集成电路进口量为5435亿块，较2019年同比增长18.8%，这表明中国集成电路市场对外依存度处于较高水平。这是因为光刻设备对光学技术和上游供应链的要求非常高，光刻机技术是全球化带来技术进步的结果，无明显的政府干预手段，这充分表明光刻机产业的垄断性并非如供水、供热等市政公用行业的区域性、局部市场的自然垄断，而是全球性的自然垄断，其垄断性质更强。
从产业链来看，光刻机上游产业链主要包括测量台与曝光台（双工件台）、激光器、光速矫正器、能量控制器、光速形状设置、遮光器、能量探测器、掩膜版、掩膜台、物镜、内部封闭框架和减震器等11个模块的组件。上游最为核心设备分别为光学镜头、光学光源和双工件台。光刻机行业的下游主要是圆晶代工企业，下游主要决定了光刻机市场的需求。
