如果要问，我们被国外卡脖子的技术有哪些，首先想到的肯定是光刻机。
这个号称人类工业皇冠上的明珠，是制造芯片的核心装置，也是横在我国冲击高端制造业面前的一座大山。
其实光刻机的原理倒不难，关键是在于精度，每一个线条和深孔的加工精度，如同在头发丝直径的几千万分之一的面积上，进行着50至60层大楼的建设。所以就算是如今的光刻机巨头荷兰ASML，都需要许多国家提供相应的配件也才能生产出来。
但是你知道吗，在那个吃不饱、穿不暖、一穷二白的年代，中国的光刻机就曾以一己之力站上过世界之巅，而彼时荷兰光刻机生产巨头ASML尚未成立。
50年代的新中国百废待兴，光刻机就是横隔在技术自主道路上的一座“珠峰”。在1966年，中国的攀爬取得胜利，我们自主研制的65型接触式光刻机正式落地。
此时涉足这一制造工艺的国家全世界只有两个，美国和中国。要知道，中国此时尚未加入世贸体系，所有环节完全独立自主。
80年代初，中国光刻机研发继续一路高歌，1981年，Jk-1半自动接近式光刻机诞生，仅过了三年，中国研制出分布光刻机样，性能指标直逼当时如日中天的美国的4800DSW光刻机。
本以为中国光刻机的辉煌征程即将开始，谁也没料到那就是巅峰。为什么会这样呢？
